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【申請(qǐng)?zhí)枴?/span>

CN201410093321.0

【申請(qǐng)日】

2014-03-13

【公開(kāi)號(hào)】

CN104047025A

【公開(kāi)日】

2014-09-17

【申請(qǐng)人】

美鋁公司

【地址】

美國(guó)賓夕法尼亞州

【共同申請(qǐng)人】

【發(fā)明人】

劉興華;小D·A·韋勞奇;F·E·菲爾普斯;J·M·戴尼斯;J·克爾克霍夫;R·A·迪米利亞

【國(guó)際申請(qǐng)】

【國(guó)際公布】

【進(jìn)入國(guó)家日期】

【專利代理機(jī)構(gòu)】

中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038

【代理人】

林振波

【分案原申請(qǐng)?zhí)枴?/span>

【國(guó)省代碼】

US

【摘要】

提供了一種系統(tǒng),包括：被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括底部和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁；以及進(jìn)料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進(jìn)料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過(guò)進(jìn)料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。

【主權(quán)項(xiàng)】

一種系統(tǒng),包括：被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括：底部,和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁；以及進(jìn)料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進(jìn)料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過(guò)所述進(jìn)料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。

【頁(yè)數(shù)】

26

【主分類號(hào)】

C25C3/00

【專利分類號(hào)】

C25C3/00;C25C7/00;C25C3/06;C25C3/08

申請(qǐng)（專利）號(hào)

201410093321.0

授權(quán)公告號(hào)

法律狀態(tài)公告日

2014.10.22

法律狀態(tài)類型

實(shí)質(zhì)審查的生效

實(shí)質(zhì)審查的生效
IPC(主分類):C25C 3/00
申請(qǐng)日:20140313